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  • HMDS8-2HMDS增粘涂膠機(jī)
    HMDS8-2HMDS增粘涂膠機(jī)

    產(chǎn)品型號(hào)

    HMDS8-2

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

    更新時(shí)間

    2026-05-11

    瀏覽次數(shù)

    2510

    產(chǎn)品描述

    HMDS增粘涂膠機(jī)應(yīng)用于在勻膠前的硅片等基片表面均勻涂布一層HMDS(六甲基二硅氮烷)。作用:降低HMDS處理后的硅片接觸角,進(jìn)而降低勻膠時(shí)光刻膠在硅片表面鋪展開的難度,提高光刻膠與硅片的黏附性,降低光刻膠的用量。
  • SHD8-SE全柜式涂膠顯影一體機(jī)
    SHD8-SE全柜式涂膠顯影一體機(jī)

    產(chǎn)品型號(hào)

    SHD8-SE

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

    更新時(shí)間

    2026-05-11

    瀏覽次數(shù)

    3202

    產(chǎn)品描述

    全柜式涂膠顯影一體機(jī)概述: SHD8-SE涂膠顯影系統(tǒng)一體機(jī)主要由勻膠單元、烤膠單元、顯影單元等部分組成,該設(shè)備針對(duì)高校研究所實(shí)驗(yàn)室,特點(diǎn)是占地面積小,性價(jià)價(jià)比更高。整機(jī)采用框架結(jié)構(gòu),外表為不銹鋼或者PP,無(wú)塵且不吸附顆粒,采用7寸操作界面控制,帶FFU、上排風(fēng)接口、腔體為黃色燈、重力排廢接口、且每個(gè)模塊均可獨(dú)立工作,操作方式為手動(dòng)上下樣品。
  • MSD-200D桌上型自動(dòng)顯影機(jī)
    MSD-200D桌上型自動(dòng)顯影機(jī)

    產(chǎn)品型號(hào)

    MSD-200D

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

    更新時(shí)間

    2026-05-11

    瀏覽次數(shù)

    2175

    產(chǎn)品描述

    桌上型自動(dòng)顯影機(jī)MSD-200D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動(dòng)擺臂單元、以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成,整機(jī)采用框架結(jié)構(gòu),外表為鏡面不銹鋼,無(wú)塵且不吸附顆粒,工作方式為手動(dòng)上下片,自動(dòng)完成顯影工藝。 桌上型成像儀顯影單元基片采用真空吸附加四周擋板固定方式,采用進(jìn)口伺服電機(jī),保證轉(zhuǎn)速、加速度、控制精度高,重復(fù)性好;供液系統(tǒng)采用廠務(wù)或者壓力容器直接供液方式。
  • MSC-200T-D自動(dòng)滴膠勻膠機(jī)
    MSC-200T-D自動(dòng)滴膠勻膠機(jī)

    產(chǎn)品型號(hào)

    MSC-200T-D

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

    更新時(shí)間

    2026-05-11

    瀏覽次數(shù)

    2134

    產(chǎn)品描述

    自動(dòng)滴膠勻膠機(jī),MSC-200T-D桌上型半自動(dòng)旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)用于對(duì)均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝,將光刻膠溶液自動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰、光柵、ITO、掩模版等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于6、8寸晶圓及方形樣品。將基材涂上一層特定的光刻膠、感光涂料或油墨, 取出后在進(jìn)行后道烘干工藝。
  • MSC系列旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)
    MSC系列旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)

    產(chǎn)品型號(hào)

    MSC系列

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

    更新時(shí)間

    2026-05-11

    瀏覽次數(shù)

    1884

    產(chǎn)品描述

    勻膠機(jī)設(shè)備簡(jiǎn)介: 桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī),用于對(duì)均勻性要求較高的表面涂布工藝,將光刻膠溶液手動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于12寸以內(nèi)樣品。
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