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  • HMDS8-2HMDS增粘涂膠機
    HMDS8-2HMDS增粘涂膠機

    產(chǎn)品型號

    HMDS8-2

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

    更新時間

    2026-05-11

    瀏覽次數(shù)

    2620

    產(chǎn)品描述

    HMDS增粘涂膠機應(yīng)用于在勻膠前的硅片等基片表面均勻涂布一層HMDS(六甲基二硅氮烷)。作用:降低HMDS處理后的硅片接觸角,進而降低勻膠時光刻膠在硅片表面鋪展開的難度,提高光刻膠與硅片的黏附性,降低光刻膠的用量。
  • SHD8-SE全柜式涂膠顯影一體機
    SHD8-SE全柜式涂膠顯影一體機

    產(chǎn)品型號

    SHD8-SE

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

    更新時間

    2026-05-11

    瀏覽次數(shù)

    3335

    產(chǎn)品描述

    全柜式涂膠顯影一體機概述: SHD8-SE涂膠顯影系統(tǒng)一體機主要由勻膠單元、烤膠單元、顯影單元等部分組成,該設(shè)備針對高校研究所實驗室,特點是占地面積小,性價價比更高。整機采用框架結(jié)構(gòu),外表為不銹鋼或者PP,無塵且不吸附顆粒,采用7寸操作界面控制,帶FFU、上排風接口、腔體為黃色燈、重力排廢接口、且每個模塊均可獨立工作,操作方式為手動上下樣品。
  • MSD-200D桌上型自動顯影機
    MSD-200D桌上型自動顯影機

    產(chǎn)品型號

    MSD-200D

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

    更新時間

    2026-05-11

    瀏覽次數(shù)

    2259

    產(chǎn)品描述

    桌上型自動顯影機MSD-200D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動擺臂單元、以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成,整機采用框架結(jié)構(gòu),外表為鏡面不銹鋼,無塵且不吸附顆粒,工作方式為手動上下片,自動完成顯影工藝。 桌上型成像儀顯影單元基片采用真空吸附加四周擋板固定方式,采用進口伺服電機,保證轉(zhuǎn)速、加速度、控制精度高,重復(fù)性好;供液系統(tǒng)采用廠務(wù)或者壓力容器直接供液方式。
  • MSC-75T鈣鈦礦旋涂儀
    MSC-75T鈣鈦礦旋涂儀

    產(chǎn)品型號

    MSC-75T

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

    更新時間

    2026-05-11

    瀏覽次數(shù)

    2206

    產(chǎn)品描述

    鈣鈦礦旋涂儀應(yīng)用:在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。應(yīng)用:在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。
  • MSC-200T-D自動滴膠勻膠機
    MSC-200T-D自動滴膠勻膠機

    產(chǎn)品型號

    MSC-200T-D

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

    更新時間

    2026-05-11

    瀏覽次數(shù)

    2195

    產(chǎn)品描述

    自動滴膠勻膠機,MSC-200T-D桌上型半自動旋轉(zhuǎn)涂布機用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝,將光刻膠溶液自動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰、光柵、ITO、掩模版等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于6、8寸晶圓及方形樣品。將基材涂上一層特定的光刻膠、感光涂料或油墨, 取出后在進行后道烘干工藝。
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