光學膜厚儀

簡要描述：本設備利用反射干涉的原理進行無損測量，測量吸收或者透明襯底上薄膜的厚度以及折射率，同時提供樣品反射率，測量精度達到埃級的分辨率，測量迅速，操作簡單，界面友好，測量時間不到1秒。可應用于光阻、半導體材料、高分子材料等薄膜層的厚度測量，在半導體、太陽能、液晶面板和光學行業(yè)以及科研院所和高校都得到了廣泛的應用和極大的好評。

基礎信息

產(chǎn)品型號

CGSR系列

廠商性質(zhì)

生產(chǎn)廠家

更新時間

2026-05-11

瀏覽次數(shù)

1831

產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

膜厚測量儀器

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關于光學膜厚儀的基本工作原理闡述

洞察微觀，精準測厚：膜厚測量儀的技術與應用

膜厚測量儀：微觀世界的精密標尺

等離子清洗機：半導體制造中的精密表面處理核心設備

詳細介紹

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測量系統(tǒng)規(guī)格

基本功能：獲取薄膜厚度值以及R、N/K等光譜

光譜分析范圍：380nm-1000nm

測量光斑大?。簶藴?.5mm，最小0.5mm

膜厚重復性測量精度：0.02nm（100nm 硅基SiO2樣件，100次重復測量）

膜厚精度：0.2%或2nm之間較大者

膜厚測量范圍：15nm-70μm

測量n和k值厚度要求：100nm以上

單點測量時間：≤ 1s

光源：標準鹵燈光源（光源壽命2000小時）

分析軟件：多達數(shù)百種的光學材料常數(shù)數(shù)據(jù)庫，并支持用戶自定義光學材料庫；提供多層各向同性光學薄膜建模仿真與分析功能

樣品臺規(guī)格：

基板尺寸：支持樣件尺寸到150*150mm(可升級定制不同尺寸樣品臺)

測控與分析軟件

光譜測量能力：反射率光譜測量

數(shù)據(jù)分析能力：膜厚分析能力，光學常數(shù)（折射率和消光系數(shù)）

支持常用光學常數(shù)模型以及常用振子模型（柯西模型、洛倫茲模型、高斯模型等）；

支持用戶自定義，可離線分析軟件模擬實際測量，支持Windows 10操作系統(tǒng)

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